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粉碎硅片设备型号，、械手或多机械手组合，实现工位工艺要求。全程序控制与触摸屏操作界面，操作便利。自动上下料台，准确上卸工件。净化烘干槽，独特的烘干前处理技术，工作干燥无水渍。全封闭外壳与抽风系统，确保良好工作环境。具备抛动清洗功能，保证清洗均匀。全封闭清洗均匀。全封闭外壳与抽风系统，确保良好工作环境。技术优势：硅片晶圆生产清洗工艺中，使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。清洗硅片晶圆同时也采用了：三套独立的电脑控制机械臂自动化作业；第三代技术，全面完善的防酸防腐措施，保护到机器每一个角落；独特的硅片干燥前处理技术，保证硅片干燥不留任何水痕；成熟的硅片干燥工艺，多种先进技术集于一身。炉前清洗：扩散前清洗。光刻后清洗：除去光刻胶。氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。抛光后自动。
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